韩企成功量产高纯度刻蚀气体，进一步降低对日依赖
据韩媒报道，全球领先的电子特气供应商SK Materials 6月17日宣布已开始批量生产超高纯度（99.999％）氟化氢（HF）气体，实现了本地化生产，进一步降低了对日本的依赖。高纯度氟化氢气体可用于半导体制造过程中从硅片上去除异物的过程中，是一种由于工艺改进而需求迅速增长的产品。
2019年7月，日本突然对韩国出口到韩国的高纯度氟化氢（蚀刻气体）、氟化聚酰亚胺和EUV光刻胶等三种电子材料实施严格的出口管制，将直接影响韩国电子产业的未来发展。不仅如此，日本还把韩国踢出贸易优惠待遇国的名单之外。面对封锁，韩国立即展开动作，一方面寻找日本之外的供货来源，另一方面也在政府支持下积极的推动国产化生产。2019年年底，SK Materials成功开发出基于三氟化氮（NF3）技术的气态氟化氢原型。之后，在庆北的灵州工厂建造了15吨规模的生产设施，以继续推动本地化。在此过程中，一直与客户进行测试，直到本月开始批量生产。SK Materials的目标是到2023年将本地化率提高到70％。
此外，SK Materials也在研发推动包括光刻胶和硬掩模板在内的半导体原材料本地化生产，将于2021年完成了生产设施，目标是从2022年起每年生产50,000加仑的光刻胶。目前，SK Materials正在开发用于氟化氩（ArF）的光刻胶。在行业中，具有再加工技能的SK Materials有望利用Kumho石化公司的zhuanli来批量生产用于极紫外（EUV）的下一代光刻胶。
